톡상담

From Idea to Perfect PhotoMask

전문가 설계 지원이 필요한 이유

반도체·MEMS 미세패턴은 포토마스크 파라미터와의 연계 시,
전문 설계 보정과 사전 지원이 큰 도움이 됩니다.

포토마스크 제조 관점

포토마스크는 다변수 고난도 공정입니다.

반도체 및 MEMS 패턴 공정 관점

포포토마스크 설계 단계의 선제적 최적화가
품질과 수율을 좌우합니다.