AXMOVIA에서는 거의 모든 사이즈의 Photomask 대응이 가능합니다. 아래 차트는 반도체 표준(Semiconductor Standard)에 따른 가장 범용적인 Binary유형들의 표준 사이즈를 보여줍니다. 이 외의 규격 또한 Glass를 적합한 크기로 커팅하여 제공할 수 있습니다.
Stepper·Scanner용 포토마스크를 제공하며, 장비 배율과 모델에 맞춘 설계를 지원합니다.
주로 mirror projection, contact, proximity aligner와 같은 1X 노광 장비에서 사용됩니다.
Photomask는 quartz 기판 위에 chrome 또는 OMOG를 패터닝하여 빛의 투과로 회로 패턴을 형성하며, 90nm 이상 공정에 주로 사용됩니다. 최근에는 CD 성능과 해상도 향상을 위해 OMOG 기반 고성능 blank도 활용됩니다.
위상 조절로 간섭 효과를 유도해 고해상도와 넓은 DOF를 확보하는 고급 photomask로, 90nm 이하 미세 공정과 Immersion lithography 등 첨단 노광에서 필수적이며 Binary Mask보다 정밀한 패턴 구현에 유리합니다.
10인치 이상 유리 기판에 정밀 패턴을 형성한 마스크로, FC-BGA·SiP·FOPLP 등 고밀도 인터포저와 기판 패턴, RDL·build-up substrate·fine-line interconnect 형성에 활용됩니다.
TFT, OLED, Mini/Micro LED 패널 공정과 정밀 계측 장비용 해상도 차트·얼라인·Overlay 측정에 쓰이는 대형 포토마스크를 제공합니다.
