R&D · Fab 공정 연계 전문

당사 포토마스크 솔루션은
초기 셋업 · 연구개발 · 마스크 컨설팅 및 팹 공정맞춤 설계 지원에 집중합니다.

※ 종래 진행해온 가격·납기 관리 목적의 양산 제작용은 직접 제조사에 문의하시는 것을 권고드립니다. 제조사 추천도 가능합니다.

Our Photomask Offerings

아래 표는 좌우로 스크롤하시면 더 많은 항목을 보실 수 있습니다.

Sodalime & Quartz Mask Specification

Grade	Mask Type	Aplication Source	Min CD (㎛)	CD Tolerance (㎛)	CD Uniformity (㎛, 3σ)	Registration (㎛, 3σ)	Defect (㎛)
1	Binary	i-line ~ Broad Band	2.0 ~	±0.2	na	na	2
2	Binary	i-line ~ Broad Band	3.0 ~	±0.3	na	na	3
3	Binary	i-line ~ Broad Band	5.0 ~	±0.5	na	na	5
4	Binary	i-line ~ Broad Band	10.0 ~	±1.0	na	na	10

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Node / Grade	Mask Type	Aplication Source	Mask Min CD (㎛)	CD Tolerance / MTT (㎛)	CD Uniformity (㎛)	Registration (㎛)	Defect (㎛)
350nm+	Binary	i-Line	1.5 ~ 2.0	±0.15 ~ 0.25	0.3	0.20 ~ 0.40	2
250nm	Binary	i-Line	1 ~	±0.10 ~ 0.25	0.23 ~ 0.25	0.20 ~ 0.40	1.5
150 / 180nm	Binary	i-Line	0.6 ~	±0.08 ~ 0.15	0.12 ~ 0.18	0.15 ~ 0.20	0.75 ~ 1.0
110 / 130nm	Binary	i-Line, KrF	0.45 ~ 0.5	±0.075 ~ 0.10	0.08 ~ 0.12	0.075 ~ 0.15	0.5 ~ 1.0
90nm	Binary	KrF, ArF	0.36 ~	±0.040	0.04 ~ 0.06	0.05 ~ 0.08	0.4 ~ 0.5
90nm	KrF PSM	KrF	0.28 ~	±0.035	0.04	0.045	0.35
40 / 55nm	Binary	ArF	0.16 ~ 0.22	±0.024 ~ 0.030	0.02 ~ 0.03	0.036 ~ 0.04	0.18 ~ 0.4
40 / 55nm	ArF PSM	ArF	0.12 ~ 0.18	±0.020 ~ 0.025	0.02	0.030 ~ 0.035	0.15 ~ 0.2
28nm	Binary	ArF	0.112 ~	±0.020	0.02	0.032	0.15 ~ 0.18
28nm	ArF PSM	ArF	0.080 ~	±0.015	0.015	0.025	0.12 ~ 0.15

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문의 주시면 응용 환경, 사용 목적에 따라 가치 공학적인 소재 설계를 제안해 드립니다.

Sodalime & Quartz Substrate Size Chart

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Sodalime 지원 규격 Quartz 지원 규격 ※ 숫자 표기 셀은 표준 재고 규격, 컬러 셀은 대응 가능 규격입니다.

문의 주시면 응용 환경, 사용 목적에 따라 가치 공학적인 소재 설계를 제안해 드립니다.